Kasa Faapitoa
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Sulfur Tetrafluoride (SF4)
EINECS NO: 232-013-4
CAS NO: 7783-60-0 -
Okisaita Nitrous (N2O)
O le nitrous oxide, e ta'ua fo'i o le kesi 'ata, o se vaila'au mata'utia e iai le fua fa'atatau o le N2O. O se kesi e leai se lanu, e manogi suamalie. O le N2O o se oxidant e mafai ona lagolagoina le mu i lalo o nisi tulaga, ae e mautu i le vevela o le potu ma e iai sina aafiaga fa'agase. , ma e mafai ona fa'ata'ata ai tagata. -
Tetrafluoride kaponi (CF4)
O le carbon tetrafluoride, e ta'ua fo'i o le tetrafluoromethane, o se kesi e leai se lanu i le vevela ma le mamafa masani, e le solo i le vai. O le kesi CF4 o le kesi etching plasma e sili ona fa'aaogaina i le taimi nei i le alamanuia microelectronics. E fa'aaogaina fo'i o se kesi laser, refrigerant cryogenic, solvent, lubricant, insulating material, ma coolant mo paipa e iloa ai le infrared. -
Sulfuryl Fluoride (F2O2S)
O le sulfuryl fluoride SO2F2, o le kasa oona, e masani ona faʻaaogaina o se vailaʻau e faʻamamā ai iniseti. Talu ai ona o le sulfuryl fluoride e iai uiga o le malosi o le sosolo ma le mafai ona sosolo, e lautele le sosolo o vailaʻau e faʻamamā ai iniseti, maualalo le fua, maualalo le aofaʻi o totoe, vave le saoasaoa o le faʻamamāina o iniseti, puʻupuʻu le taimi e faʻasalalau ai kasa, faigofie ona faʻaaoga i le vevela maualalo, leai se aʻafiaga i le fua o le germination ma maualalo le oona, o le tele foʻi lea o lona faʻaaogaina lautele i faleteuoloa, vaʻa uta, fale, pa vai, puipuiga o mogamoga, ma isi mea. -
Silane (SiH4)
O le Silane SiH4 o se kasa e leai se lanu, oona ma e matua galue malosi lava i le vevela ma le mamafa masani. E fa'aaogaina lautele le Silane i le tuputupu a'e epitaxial o le silicon, mea mata mo le polysilicon, silicon oxide, silicon nitride, ma isi mea, sela o le la, alava opitika, gaosiga o tioata lanu, ma le fa'aputuina o le ausa kemikolo. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, mama o le kesi: 99.999%, e masani ona faʻaaogaina o se mea e faʻaoso ai meaʻai ma le kesi feololo. E masani ona faʻaaogaina i le faiga o le semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition), e faʻaaogaina le C4F8 e sui ai le CF4 poʻo le C2F6, e faʻaaogaina o se kesi faʻamamā ma le kesi etching o le faiga o le semiconductor. -
Okisaita Nitriki (NO)
O le kesi nitric oxide o se fa'aputuga o le nitrogen ma le fua fa'akemikolo NO. O se kesi e leai se lanu, leai se manogi, ma oona e le mafai ona solo i le vai. O le nitric oxide e matua tali vave lava i le kemikolo ma e tali atu i le okesene e fausia ai le kesi 'a'ai nitrogen dioxide (NO₂). -
Haidrokene Kloride (HCl)
O le kasa hydrogen chloride HCL o se kasa e leai se lanu ma e iai sona manogi malosi. O lona vai e ta'ua o le hydrochloric acid, e ta'ua fo'i o le hydrochloric acid. E fa'aaogaina tele le hydrogen chloride e fai ai vali, mea manogi, vaila'au, chloride eseese ma mea e taofia ai le 'ele. -
Hexafluoropropylene (C3F6)
O le Hexafluoropropylene, o lona fua fa'akemikolo: C3F6, o se kesi e leai se lanu i le vevela ma le mamafa masani. E masani ona fa'aaogaina e saunia ai oloa eseese o vaila'au lelei e iai le fluorine, vaila'au fa'afoma'i, vaila'au tineia afi, ma isi mea fa'apena, ma e mafai fo'i ona fa'aaogaina e saunia ai mea polymer e iai le fluorine. -
Ammonia (NH3)
O le ammonia suavaia / ammonia e leai se vai o se mea taua tele mo vailaʻau ma e tele ona faʻaoga. E mafai ona faʻaaogaina le ammonia suavaia e fai ma mea e faʻamālūlū ai. E masani ona faʻaaogaina e gaosia ai le nitric acid, urea ma isi faʻapalaga vailaʻau, ma e mafai foʻi ona faʻaaogaina o se mea mata mo vailaʻau ma vailaʻau faʻasaina. I le alamanuia o le puipuiga, e faʻaaogaina e fai ai mea e faʻaoso ai roketi ma misila.
