Oloa
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Okesene (O2)
O le okesene ose kasa e leai se lanu ma e leai se manogi. O le ituaiga elemene sili ona taatele o le okesene. E tusa ai ma tekinolosi, e maua mai le okesene mai le faʻafefe o le ea, ma o le okesene i le ea e tusa ma le 21%. O le okesene ose kesi e leai se lanu ma e leai se manogi ma le fua fa'a-kemikolo O2, o le ituaiga elemene sili ona taatele o le okesene. O le mea e liusuavai ai e -218.4°C, ae o le mea e fa'afefe ai e -183°C. E le faigofie ona solu ile vai. E tusa ma le 30mL o le okesene e fa'amuta i le 1L o le vai, ma o le okesene vai e lanumoana lagi. -
Sulfur Dioxide (SO2)
Sulfur dioxide (sulfur dioxide) o le sulfur dioxide e sili ona taatele, sili ona faigofie, ma fa'aitaita'i fa'atasi ai ma le vaila'au SO2. O le sulfur dioxide o se kasa e le lanu ma manino ma se manogi manogi. Solu i le vai, ethanol ma le eter, sulfur dioxide vai e fai si mautu, le toaga, e le mu, ma e le fausia se paluga pa ma le ea. O le sulfur dioxide o lo'o iai ni mea e fa'amafu ai. O le sulfur dioxide e masani ona fa'aaogaina i alamanuia e fa'alava ai le pulupulu, fulufulu mamoe, siliki, pulou vaomago, ma isi. E mafai fo'i e le sulfur dioxide ona fa'alavelaveina le tupu a'e o le limu ma siama. -
Ethylene Oxide (ETO)
O le Ethylene oxide o se tasi o ethers sili ona faigofie. O se fa'apotopotoga heterocyclic. O lona fua fa'atatau ole C2H4O. Ose fa'ama'i oona ma ose mea tau petrochemical. O mea tau vaila'au o le ethylene oxide e matua malosi lava. E mafai ona o'o i tali fa'aopoopo e tatala mama ma le tele o mea fa'afefiloi ma e mafai ona fa'aitiitia le nita siliva. -
1,3 Butadiene (C4H6)
1,3-Butadiene o se faʻalapotopotoga faʻapitoa ma se vailaʻau faʻasolosolo ole C4H6. Ose kasa e leai ni lanu ma sina manogi manogi ma e faigofie ona liu. E itiiti le oona ma o lona oona e talitutusa ma le ethylene, ae e malosi le ita i le paʻu ma mucous membranes, ma e iai sona aafiaga faʻamaʻi ile maualuga maualuga. -
hydrogen (H2)
O le hydrogen o lo'o i ai se fua fa'atatau o le H2 ma le mamafa o le mole e 2.01588. I lalo o le vevela masani ma le mamafa, o se kesi e sili ona mu, leai se lanu, manino, leai se manogi ma le tofo e faigata ona faʻamavae i le vai, ma e le tali atu i le tele o mea. -
Neon (Ne)
Neon ose kesi e leai se lanu, e leai se manogi, e le mafai ona mu e seasea ona mu ma se fua fa'a vaila'au o le Ne. E masani lava, e mafai ona faʻaaogaina neon e fai ma kesi faʻatumu mo moli lanu lanu mo faʻaaliga faʻasalalauga i fafo, ma e mafai foi ona faʻaogaina mo faʻaaliga malamalama vaʻaia ma tulafono faatonutonu. Ma vaega fa'afefiloi kasa leisa. O kasa mamalu e pei o Neon, Krypton ma Xenon e mafai foi ona faʻaaogaina e faʻatumu ai mea tioata e faʻaleleia ai a latou faʻatinoga poʻo galuega. -
Carbon Tetrafluoride (CF4)
O le carbon tetrafluoride, e taʻua foi o le tetrafluoromethane, o se kasa e leai ni lanu i le vevela masani ma le mamafa, e le mafai ona faʻafefe i le vai. O le kasa CF4 o loʻo faʻaaogaina nei le plasma etching gas i le microelectronics alamanuia. E fa'aaogaina fo'i e fai ma kesi leisa, fa'alili cryogenic, solvent, lubricant, insulating mea, ma coolant mo tubes detector infrared. -
Sulfuryl Fluoride (F2O2S)
Sulfuryl fluoride SO2F2, kasa oona, e masani ona faʻaaogaina e avea o se iniseti. Talu ai ona o le sulfuryl fluoride o loʻo i ai uiga o le faʻasalalau malosi ma le faʻaogaina, insecticide lautele-alaleo, maualalo fua, maualalo le aofaʻi o totoe, saoasaoa insecticidal saoasaoa, taimi faʻasalalau kesi puʻupuʻu, faʻaoga talafeagai i le maualalo o le vevela, leai se aʻafiaga i le fua o le germination ma maualalo oona, sili atu. E sili atu ma sili atu ona faʻaaogaina i faleteuoloa, vaʻa uta, fale, faʻatanoa vai, puipuiga o nai, ma isi. -
Silane (SiH4)
Silane SiH4 ose kesi e leai se lanu, oona ma malosi tele i le vevela masani ma le mamafa. Silane e faʻaaogaina lautele i le tuputupu aʻe o le epitaxial o le silikoni, mea mataʻutia mo le polysilicon, silicon oxide, silicon nitride, ma isi mea, solar cell, fiber optical, gaosiga tioata lanu, ma le faʻaaogaina o vailaʻau. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, mama kasa: 99.999%, masani ona faʻaaogaina e fai ma meaʻai aerosol propellant ma medium gas. E masani ona faʻaaogaina i le semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition) faagasologa, C4F8 o loʻo faʻaaogaina e fai ma sui mo CF4 poʻo C2F6, faʻaaogaina e pei o le faamamaina o le kesi ma le semiconductor process etching gas. -
Nitric Oxide (NO)
Nitric oxide gas o se fa'aputuga o le nitrogen ma le fua fa'atatau ole NO. Ose kasa e leai se lanu, e leai se manogi, e oona e le mafai ona solu ile vai. O le nitric oxide e matua'i fa'agaoioi ma fa'agaioi ma le okesene e fa'atupu ai le kesi fa'ama'i o le nitrogen dioxide (NO₂). -
Hydrogen Chloride (HCl)
Hydrogen chloride HCL Gas o se kasa e leai ni lanu ma se manogi manogi. O lona vaifofo vai e ta'ua o le hydrochloric acid, lea e lauiloa foi o le hydrochloric acid. O le hydrogen chloride e masani ona faʻaaogaina e fai ai vali, mea manogi, vailaʻau, chlorides eseese ma iniseti corrosion.
