Tekinolosi etching mago o se tasi o faiga autu. O le kasa etching mago o se mea taua i le gaosiga o semiconductor ma se puna kesi taua mo le etching plasma. O lona faʻatinoga e aʻafia saʻo ai le lelei ma le faʻatinoga o le oloa mulimuli. O le tala lea e fa'asoa fa'atasi ai mea e masani ona fa'aogaina kasa etching i le faiga fa'amamago.
Kasa fa'avae fluorine: pei olecarbon tetrafluoride (CF4), hexafluoroethane (C2F6), trifluoromethane (CHF3) ma perfluoropropane (C3F8). O nei kasa e mafai ona fa'atupuina lelei fluorides pe a togiina le silicon ma silicon compounds, ma maua ai le aveeseina o mea.
Kasa fa'avae chlorine: pei ole chlorine (Cl2),boron trichloride (BCl3)ma silicon tetrachloride (SiCl4). O kasa fa'avae chlorine e mafai ona maua ai ions chloride i le faagasologa o le etching, lea e fesoasoani e faʻaleleia ai le fua o le etching ma le filifilia.
Kasa fa'avae bromine: pei ole bromine (Br2) ma bromine iodide (IBr). O kasa fa'avae bromine e mafai ona maua ai le fa'atinoga lelei o le togitogiina i nisi o faiga fa'ailoga, ae maise lava pe a togitogi mea malo e pei o le silicon carbide.
O kasa fa'avae nitrogen ma le okesene: pei ole nitrogen trifluoride (NF3) ma le okesene (O2). O nei kasa e masani ona faʻaaogaina e faʻafetaui ai tulaga faʻaalia i le faʻagasologa o le etching e faʻaleleia ai le filifilia ma le faʻatonuina o le etching.
O nei kasa e maua sa'o le togitogiina o le meafaitino e ala i le tu'ufa'atasiga o le fa'aoso fa'aletino ma gaioiga fa'a-kemikolo a'o etching plasma. O le filifiliga o le kesi etching e faalagolago i le ituaiga o mea e togitogia, le filifilia o manaoga o le etching, ma le fua faatatau etching manaomia.
Taimi meli: Feb-08-2025
