O a kasa etching e masani ona faʻaaogaina i le etching dry?

O le tekinolosi o le vaneina mago o se tasi o faiga autū. O le kesi vaneina mago o se mea autū i le gaosiga o semiconductor ma o se puna kesi tāua mo le vaneina o le plasma. O lona faʻatinoga e aʻafia saʻo ai le lelei ma le faʻatinoga o le oloa mulimuli. O lenei tusiga e faʻasoa atu ai poʻo a kesi vaneina e masani ona faʻaaogaina i le faiga o le vaneina mago.

Kasa e fa'avae i le fluorine: e pei okaponi tetrafluoride (CF4), hexafluoroethane (C2F6), trifluoromethane (CHF3) ma le perfluoropropane (C3F8). O nei kasa e mafai ona gaosia lelei fluorides volatile pe a eliina le silicon ma silicon compounds, ma maua ai le aveeseina o meafaitino.

Kasa e fa'avae i le chlorine: e pei o le chlorine (Cl2),boron trichloride (BCl3)ma le silicon tetrachloride (SiCl4). E mafai e kasa e fa'avae i le chlorine ona maua mai ai ni chloride ions i le taimi o le fa'agasologa o le etching, lea e fesoasoani e fa'aleleia atili ai le saoasaoa o le etching ma le filifiliga.

Kasa e fa'avae i le bromine: e pei o le bromine (Br2) ma le bromine iodide (IBr). E mafai e kasa e fa'avae i le bromine ona tu'uina atu le fa'atinoga sili atu o le vaneina i nisi o faiga vaneina, aemaise lava pe a vaneina mea malo e pei o le silicon carbide.

Kasa e fa'avae i le naitorosene ma le okesene: e pei o le naitorosene trifluoride (NF3) ma le okesene (O2). O nei kasa e masani ona fa'aaogaina e fetu'una'i ai tulaga o le tali atu i le fa'agasologa o le vaneina e fa'aleleia atili ai le filifiliga ma le fa'asinomaga o le vaneina.

O nei kasa e ausia ai le sa'o o le valiina o le fogāeleele o mea e ala i le tu'ufa'atasia o le sputtering fa'aletino ma tali fa'akemikolo i le taimi o le valiina o le plasma. O le filifiliga o le kasa vali e fa'alagolago i le ituaiga o mea e valiina, mana'oga filifilia o le valiina, ma le fua fa'atatau e mana'omia mo le valiina.


Taimi na lafoina ai: Fepuari-08-2025