O le a le masani masani faʻaaogaina o le etching gase i le mamago etching?

Mago le Etching Tekonolosi o se tasi o le auala taua. Faʻamamaina etching kesi o se mea taua i se cominonductor gaosiga ma se taua kesi vailaʻau mo plasma eʻila. O lona faatinoga tuusaʻo e aafia ai le lelei ma le faʻatinoga o le oloa mulimuli. O lenei tala masani ona tuʻuina atu mea o le masani masani faʻaaogaina etching kesi i le faʻamamaina o le sili ona lelei gaioiga.

Flfirine-faavae lemu: pei oCarbon Turafluride (CF4), Hexafaroethane (c2f6), triflumoromethane (chf3) ma perfutoroppane (C3F8). O nei kesi e mafai ona faʻalelei lelei le faʻaaogaina o le valeʻe o le vale o le sili pe a matilini siliki ma silikicon compouction, o lea o le a maua ai le aveeseina o mea.

Chlorine-faavae lemu: pei o le chlorine (c22),Boron Trichloride (BCL3)ma le silicono betrachlordide (Sicl4). O le kesi e maua ai le kalone e mafai ona maua ai le 'ai i totonu o le chloride i le va o le auala, lea e fesoasoani e faʻaleleia ai le aoga ma le filifilia.

Bromine-faʻavae gase: pei o Bromine (BR2) ma Bromine iodide (irb). O le Bromone-faʻavae kesi e mafai ona maua sili atu ma le mataʻituina o gaioiga i nisi o isi gaioiga, aemaise lava pe a masaga mea faigata pei o le teleko.

Nitrogen-faʻavae ma le okesene-faʻavae i totonu o le tele o le tele: pei o le nitrogen triflurside (nf3) ma le okesene (o2). O fualaʻau nei e masani ona faʻaaoga e fetuunai ai tulaga o loʻo i le etching gaioiga e faʻaleleia ai le filifilia ma le faʻatonuga o le esaga.

O nei tala ua ausia e le saʻo o mea i luga o mea i luga o le tuʻufaʻatasiga o le tino o fetuʻutuʻu ma vailaʻau o loʻo uiga i luga o le plasma o le tele. O le filifiliga o le Etching Copy e faʻalagolago i le ituaiga o mea e tatau ona ofi, o le filifilia manaʻoga o le esaga, ma le aoga teine ​​manaʻomia.