Le Aofa'i Tele o Kesi Fa'apitoa Fa'aeletonika - Nitrogen Trifluoride NF3

O pisinisi semiconductor a lo tatou atunuu ma alamanuia vaega o loo faatumauina le maualuga o le tamaoaiga. Nitrogen trifluoride, e avea o se kesi eletise faʻapitoa e manaʻomia ma sili ona tele i le gaosiga ma le gaosiga o panels ma semiconductors, o loʻo i ai se avanoa lautele maketi.

O kasa fa'aeletoroni fa'apitoa e masani ona fa'aaogaina e aofia ai le fluorine e aofia aisulfur hexafluoride (SF6), tungsten hexafluoride (WF6),carbon tetrafluoride (CF4), trifluoromethane (CHF3), nitrogen trifluoride (NF3), hexafluoroethane (C2F6) ma le octafluoropropane (C3F8). Nitrogen trifluoride (NF3) e masani ona faʻaaogaina e avea o se puna o le fluorine mo le hydrogen fluoride-fluoride gas high-energy chemical lasers. O le vaega aoga (e tusa ma le 25%) o le malosi o le tali i le va o le H2-O2 ma le F2 e mafai ona faʻasaʻolotoina e le laser radiation, o lea la o le HF-OF lasers o le lasers sili ona folafola atu i le lasers vailaʻau.

Nitrogen trifluoride o se kasa etching plasma sili ona lelei i le alamanuia microelectronics. Mo le etching silicon ma silicon nitride, nitrogen trifluoride e maualuga atu le fua o le etching ma le filifilia nai lo le carbon tetrafluoride ma le faʻafefiloi o le carbon tetrafluoride ma le okesene, ma e leai se filogia i luga. Aemaise lava i le togitogiina o mea faʻapipiʻi tuʻufaʻatasia ma le mafiafia o le itiiti ifo i le 1.5um, o le nitrogen trifluoride o loʻo i ai se fua faʻatatau sili ona lelei ma le filifilia, e leai se mea e totoe i luga o le mea ua togitogia, ma o se mea faʻamamaina lelei tele. Faʻatasi ai ma le atinaʻeina o nanotechnology ma le faʻalauteleina o le atinaʻeina o pisinisi eletise, o lona manaʻoga o le a faʻateleina i lea aso ma lea aso.

I le avea ai o se ituaiga o kasa faʻapitoa e iai le fluorine, o le nitrogen trifluoride (NF3) o le tele lea o mea faʻaeletoroni faʻapitoa kasa i le maketi. E chemically inert i le vevela potu, sili atu le malosi nai lo le okesene, sili atu mautu nai lo fluorine, ma faigofie ona taulimaina i le vevela maualuga.

O le Nitrogen trifluoride e masani ona faʻaaogaina e pei o le plasma etching gas ma le tali atu o le potu e faʻamamaina ai, e talafeagai mo le gaosiga o fanua e pei o semiconductor chips, faʻaaliga laulau mafolafola, fiber opitika, sela photovoltaic, ma isi.

Pe a faatusatusa i isi kasa eletise o loʻo i ai le fluorine, o le nitrogen trifluoride o loʻo i ai le lelei o le tali vave ma le maualuga, aemaise lava i le faʻaogaina o mea e aofia ai le silicon e pei o le silicon nitride, o loʻo i ai le maualuga o le etching ma le filifilia, e leai se mea e totoe i luga o le mea ua togitogia, ma o se mea faʻamamaina lelei tele, ma e le faʻafefeina le faʻaogaina o mea e manaʻomia.