Semicounductor Gase

I le gaosi oloa o le stoodonductor wacfer o lo o faavae ma le tele o gaioiga gaosiga, toeititi 50 eseese ituaiga o kesi. O le kesi e masani ona vaevaeina i totonu o le tele o faaputuga maFaapisa Faapitoa.

O le faʻaaogaina o kesi i Microdeoper ma le Faʻafitauli o loʻo masani ai le faʻaaogaina o tioata, aemaise gaioiga faʻataʻitaʻi o loʻo faʻaaogaina lautele. Mai ULSI, TLT-LCD i le taimi nei micro-electromechanical (mems) alamanuia, e aofia ai le gaosiaga o oloa gaosiga, o le peni ata

Mo se faʻataʻitaʻiga, o le toʻatele o tagata e iloa o loʻo faia o laʻau i le oneone, ae o loʻo vaʻavaʻai i le auala atoa o falelotu, sili atu, mea taua, ma isi mea. O loʻo iai foi le avanoa faʻaiʻu o loʻo i tua e manaʻomia foi ia mea, suʻesuʻega, ma faʻalauiloa a ni mea eseese, ma isi. Faʻasao Faʻatupuina Gase o le lona lua pito i ai mea i le semicoundcuctor gaosiga tau pe a uma le sili o le anicoon wachers, mulimuli mai ma ni pulupulu.

O le mama o le kesi ei ai le faʻamalosi o le mafaufau i le vaega o le faʻaaogaina ma oloa o loʻo maua, ma o le saogalemu o le sapalai kesi e fesoʻotaʻi ma le soifua maloloina o tagata faigaluega ma le saogalemu o le fale gaosi o tagata faigaluega ma le saogalemu o le fale gaosi tagata. Aisea e tele ai le taua tele o le taua o le faʻatonutonuina o le maʻasa i le faʻasologa o le laina ma le aufaigaluega? E le o se soona soona fai, ae e fuafuaina i mea mataʻutia o le kesi lava ia.

Faʻavasegaina o palu masani i le paʻu o le semponductor alamanuia

Kesi masani

E taʻua foi le kesi e le kesi, e faʻasino i le kesi o le kesi ma le mama e manaʻomia i lalo ifo o le 5n ma le tele o gaosiga ma le tele o gaosiga. E mafai ona vaevaeina i totonu o le ea o le ea vavaeina kesi ma le synthetic kesi e tusa ai ma auala eseese. Hydrogen (H2), Nitrogen (N2), okesene (o2), Argon (A2), etc)

Faigofie kesi

E faʻasino i le Kamupani Faʻapitoa i Alamanuia Kamupani o loʻo faʻaaogaina i fanua faʻapitoa ma e iai manaʻoga faʻapitoa mo le mama aʻiaʻi, ituaiga, ma meatotino. LauteleSih4, PH3, B2h6, A8h3 ,.Hcl, Cf4,Nh3, Pocl3, Sih2cl2, Sihcl3,Nh3, BCL3, Sif4, CLLD, CO, C2F6, N2O, F2, HF, hr,Sf6… ma faapena atu ai lava.

Ituaiga o SpIcional Dust

Ituaiga o faaputuga faʻapitoa: corrosive, oona, afi, afi, copsission-lagolago, i luga, ma isi
Masani faʻaaogaina le stoodonductor scases ua faʻavasegaina e pei ona taua:
(i) corrosit / oona:Hcl, BF3, WF6, HBR, Sih2cl2, NH3, PH3, CL2,BCL3...
(Ii) afi: h2,Ch4,Sih4, PH3, Ash3, Sih2cl2, B2H6, CH2F2, CH3F, CHRY ...
(iii) Faʻavasegaina: o2, cl2, N2O, NF3 ...
(iv) Interrt: N2,Cf4, C2f6,C4F8,Sf6, CO2,Ne,Kr, Na te ...

I le faʻagasologa o le stoodonductor chip gaosi oloa, e tusa o le 50 ituaiga ituaiga o kesi faʻapitoa (o loʻo taʻua e pei o faʻaitiitia, ma le atoaga faʻasologa, ma le aofaʻi o gaioiga, ma le aofaʻiga o faʻagasologa For example, PH3 and AsH3 are used as phosphorus and arsenic sources in the ion implantation process, F-based gases CF4, CHF3, SF6 and halogen gases CI2, BCI3, HBr are commonly used in the etching process, SiH4, NH3, N2O in the deposition film process, F2/Kr/Ne, Kr/Ne in the photolithography process.

Mai mea i luga, e mafai ona tatou malamalama i le tele o faʻailoga efūs e leaga i le tino o le tagata. Aemaise lava, o nisi o taliga, pei o SIh4, o le tagata lava ia. A o latou pauu, latou te tali atu ma le saua i Okesene i le ea ma amata ona mumu; ma le asse3 e sili ona oona. Soʻo se lapoʻa e ono mafua ai le afaina i olaga o tagata, o le mea foʻi lea e manaʻomia ai le saogalemu o le pulega o le pulega mo le faʻaaogaina o le kesi faʻapitoa.

O semiconductors manaʻomia le maualuga-mama o loʻo i ai le "tolu tikeri"

Kesi mama

O le anotusi o le le mama i le vaipuna i totonu o le kesi e masani ona faʻaalia o se pasene o le kesi oona, pei o le 99.9999%. O le masani ai ona tautala, le mama aʻiaʻi mo le malae faʻapitoa a le Selefeaga a le Faamalolo i le 5N-6N, ma ua faʻaalia foi e le miliona), ma le PPB (Vaega i le piliona). O le faʻafanua o le patoranductor fanua e maualuga le manaʻoga mo le mama ma le lelei mautu o faaputuga faʻapitoa, ma le mama o le komepiuta faʻapitoa e sili atu le sili atu nai lo 6n.

Mamago

O le anotusi o le vai vai i le kesi, poʻo le susu, e masani ona faʻaalia i le dew proces, pei o le Amopheric Dew Prence -70 ℃.

Mama

O le numera o mea filogia o vaega i le kesi, fasiteina ma le tele o le μo, o loʻo faʻaalia i le tele o fasimea / m3. Mo le ea o le ea, e masani ona faʻaalia i le MG / M3 o le le maalofia maa paleni, lea e aofia ai le suauu mea.


Taimi o le taimi: Aukuso-06-2024