Masani faʻaaoga palu palu i le semicounductor gaosi

EpitaxAL (tuputupu aʻe)Fefiloi gas

I le Soumponductor Business, o le kesi na faʻaaoga e tupu ai se tasi pe sili atu vaega o mea e ala i le vailaau o le Spargal Sporsist e taʻua o le Spitaraxal.

Masani faʻaaogaina le sili siliva epitaxal guses aofia ai dichlorosila, silko betrachlorde masilaine. Tele faʻaaogaina mo Epitaxial silicon Teuina, silikis Oxide Times Daices, Alicon Nitride ata o loʻo teu i luga o le mea o loʻo teu ai i luga o le mea e mafai ai i luga.

Chemical Spar Faletupe (CVD) fefiloi kesi

O le CVD o se metotia o le teuina o nisi elemene ma palu e ala i le kesi o le kesi e faʻaaoga ai le faʻaaogaina o le volatii Fuafua i le ituaiga o ata tifaga na fausia, o le vailaʻau o le vailaʻau o le kesi (CVD) kesi ua faʻaogaina e ese foi.

TafanaFefiloi kasa

I le gaosiga o semicounductictor masini ma tuʻufaʻatasia lapisi, e maua ai e nisi afaina i le semikonductactor mea e faʻaaoga ai ressictorm, prec.......

Aemaise aofia ai se arsine, phosphine, phosphorchorus triflurdide, phosphorus postaflustride, arsnic triflurnide,Boron triflurride, detebrane, etc.

E masani lava, o le faʻavae o le vaega o loʻo fefiloi ma le kesi kesi (pei o Argon ma Nitrogen) i totonu o se vaega Kapeneta. Ina ua maeʻa fefiloi, o le kesi tafe o loʻo taofia pea i totonu o le faʻafitauli o le ogaumu ma siʻosiʻomia o le vai, ona le toe faia ma le silikini e tausalaina

MasagaKesi fefiloi

Etcheling o le etche ese le faʻagaioiga o le ata (pei o le uʻamea ata tifaga, silicon oxide ata tifaga, etc.) i luga o le mea e te manaʻomia ai i luga o le ata.

O auala i luga o auala e aofia ai susu susu ma le mamago vailaau. O le kesi na faʻaaogaina i le matutu vaisu e taʻua o le kesi.

Etching kesi e masani ona o le ea malulu (halde), pei ocarbon titrafluride, atrogen triflunerde, triilioorororomethane, hexaflunoroethathane, pefluorophorne, ma isi


Taimi o le taimi: Nov-22-2024