Kasa fa'apitoaeseese mai le lautelekasa fa'apisinisiona e iai a latou faʻaoga faʻapitoa ma e faʻaaogaina i vaega faʻapitoa. E iai a latou manaʻoga faʻapitoa mo le mama, le aofaʻi o mea le mama, le tuufaatasiga, ma meatotino faʻaletino ma vailaʻau. Pe a faʻatusatusa i kasa faʻapisinisi, e sili atu ona eseese ituaiga o kasa faʻapitoa ae e laʻititi le gaosiga ma le faʻatauina atu.

O lekasa fefiloimakasa fa'atulagaina masaniO vaega taua ia e masani ona tatou faʻaaogaina o kasa faʻapitoa. O kasa fefiloi e masani ona vaevaeina i kasa fefiloi lautele ma kasa fefiloi eletise.

O kasa fefiloi lautele e aofia ai:kesi fefiloi laser, kesi fefiloi mo le iloa o meafaigaluega, kesi fefiloi mo le ueloina, kesi fefiloi mo le faasaoina, kesi fefiloi mo le malamalama eletise, kesi fefiloi mo suʻesuʻega faafomaʻi ma faʻaolaola, kesi fefiloi mo le faʻamamāina ma le faʻamamāina o siama, kesi fefiloi mo le faʻailo o meafaigaluega, kesi fefiloi mo le mamafa maualuga, ma le ea e leai se ea.

O paluga kesi eletise e aofia ai paluga kesi epitaxial, paluga kesi e fa'aputuina ai le ausa vaila'au, paluga kesi doping, paluga kesi etching, ma isi paluga kesi eletise. O nei paluga kesi e taua tele i pisinisi semiconductor ma microelectronics ma e fa'aaogaina lautele i le gaosiga o matagaluega tu'ufa'atasi tetele (LSI) ma matagaluega tu'ufa'atasi tetele (VLSI), fa'apea fo'i ma le gaosiga o masini semiconductor.

5 ituaiga o kasa fefiloi eletise e sili ona faʻaaogaina

Fa'a'asu'iina o kasa fefiloi

I le gaosiga o masini semiconductor ma feso'ota'iga tu'ufa'atasi, o nisi o mea leaga e fa'aofiina i totonu o mea semiconductor e tu'uina atu ai le conductivity ma le resistivity e mana'omia, e mafai ai ona gaosia ni resistors, PN junctions, buried layers, ma isi meafaitino. O kesi e fa'aaogaina i le faiga o le doping e ta'ua o kesi dopant. O nei kesi e aofia ai le arsine, phosphine, phosphorus trifluoride, phosphorus pentafluoride, arsenic trifluoride, arsenic pentafluoride,boron trifluoride, ma le diborane. O le puna o le dopant e masani ona palu faatasi ma se kesi feaveaʻi (e pei o le argon ma le nitrogen) i totonu o se kapeneta puna. Ona faʻaauau pea lea ona tuiina le kesi palu i totonu o se ogaumu faʻasalalau ma faʻataʻamilo i le wafer, ma faʻaputu le dopant i luga o le wafer. Ona tali atu lea o le dopant ma le silicon e fausia ai se uʻamea dopant e feoaʻi atu i totonu o le silicon.

Fa'afefiloi o le kesi tuputupu a'e epitaxial

O le tuputupu a'e o le epitaxial o le faagasologa lea o le teuina ma le fa'atupuina o se mea tioata e tasi i luga o se mea fa'avae. I le pisinisi semiconductor, o kesi e fa'aaogaina e fa'atupu ai le tasi pe sili atu vaega o mea e fa'aaoga ai le fa'aputuga o le ausa kemikolo (CVD) i luga o se mea fa'avae ua filifilia ma le fa'aeteete e ta'ua o kesi epitaxial. O kesi masani o le silicon epitaxial e aofia ai le dihydrogen dichlorosilane, silicon tetrachloride, ma le silane. E fa'aaogaina muamua mo le fa'aputuga o le epitaxial silicon, polycrystalline silicon deposition, silicon oxide film deposition, silicon nitride film deposition, ma le amorphous silicon film deposition mo solar cells ma isi masini photosensitive.

Kasa fa'apipi'i ion

I le gaosiga o masini semiconductor ma le integrated circuit, o kasa e faʻaaogaina i le faiga o le faʻapipiʻiina o le ion e taʻua faʻatasi o kasa faʻapipiʻi ion. O mea leaga ua faʻapipiʻiina ion (e pei o le boron, phosphorus, ma arsenic ions) e faʻavavevaveina i se tulaga maualuga o le malosi aʻo leʻi faʻapipiʻiina i totonu o le substrate. O le tekinolosi faʻapipiʻi ion e sili ona faʻaaogaina e pulea ai le voltage threshold. O le aofaʻi o mea leaga ua faʻapipiʻiina e mafai ona fuafuaina e ala i le fuaina o le ion beam current. O kasa faʻapipiʻi ion e masani ona aofia ai le phosphorus, arsenic, ma boron gases.

Fa'amamāina o le kesi fefiloi

O le vaneina o le faagasologa lea o le vaneina ese o le mea ua uma ona gaosia (e pei o le ata u'amea, ata silicon oxide, ma isi mea faapena) i luga o le mea ua uma ona gaosia e le photoresist, a'o puipuia pea le vaega ua uma ona valiina e le photoresist, ina ia maua ai le mamanu ata mana'omia i luga o le mea ua uma ona valiina.

Fa'afefiloi o le Kemikolo mo le Fa'aputuina o le Ausa

O le Chemical Vapor Deposition (CVD) e faʻaaogaina ai ni mea e faʻaputu ai se mea e tasi poʻo se mea e ala i se faʻagasologa faʻakemikolo i le va o le ausa. O se metotia lea e fausia ai se ata tifaga e faʻaaogaina ai faʻagasologa faʻakemikolo i le va o le ausa. E eseese kasa CVD e faʻaaogaina e fuafua i le ituaiga ata tifaga o loʻo fausia.