O le kasa Saina e sili ona mama ma fa'atau atu i le gaosiga o le kasa Tetrafluoride CF4 mo le valiina o le Semiconductor Industry

Fa'amatalaga Pupuu:


Fa'amatalaga o le oloa

Fa'ailoga o Oloa

Matou te faʻatinoina pea lava pea lo matou agaga o le "Fou fou e aumaia ai le alualu i luma, Tulaga maualuga e faʻamautinoa ai le ola, Faʻamanuiaga tau maketi a le Pulega, Faʻatosina mai o tagata faʻatau mo le faʻatau vevela o Saina High Purity Carbon Tetrafluoride CF4 Gas mo le Semiconductor Industry Etching, Matou te taliaina ma le agalelei uo mai soʻo se ituaiga o olaga i aso uma e saili le galulue faʻatasi ma fausia se lumanaʻi sili atu ona pupula ma matagofie.
Matou te faʻatinoina pea lava pea lo matou agaga o le "Fou e aumaia ai le alualu i luma, Tulaga maualuga e faʻamautinoa ai le ola, Faʻamanuiaga tau maketi a le Pulega, Faʻatosinaina o le togi aitalafu mo tagata faʻatau moSaina CF4 Refrigerant Gas, Ogāumu Kasa, O matou o lau pa'aga fa'atuatuaina i maketi fa'ava-o-malo ma oloa sili ona lelei. O matou tulaga lelei o le fa'afouga, fetu'una'i ma le fa'atuatuaina lea na fausia i le luasefulu tausaga talu ai. Matou te taula'i atu i le tu'uina atu o auaunaga mo a matou tagata fa'atau o se elemene autu i le fa'amalosia o a matou mafutaga mo se taimi umi. O lo matou maua pea o fofo maualuga fa'atasi ai ma la matou auaunaga sili ona lelei a'o le'i fa'atauina atu ma le mae'a ai o le fa'atauina atu e fa'amautinoa ai le malosi o le tauvaga i se maketi fa'avaomalo ua fa'ateleina.

Fa'atulagaga Fa'apitoa

Fa'amatalaga 99.999%
Okesene+Argon ≤1ppm
Naitorosene ≤4 ppm
Susū (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0.1 ppm
CO ≤0.1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynes ≤1 ppm
Mea Leaga Atoa ≤10 ppm

O le carbon tetrafluoride o se hydrocarbon halogenated ma le fua fa'akemikolo CF4. E mafai ona ta'ua o se hydrocarbon halogenated, halogenated methane, perfluorocarbon, po'o se fa'aputuga inorganic. O le carbon tetrafluoride o se kesi e leai se lanu ma leai se manogi, e le solo i le vai, e solo i le benzene ma le chloroform. E mautu i lalo o le vevela ma le mamafa masani, 'alo'ese mai mea malolosi e fa'aola ai le ea, mea e mu pe mu. O kesi e le mu, o le mamafa i totonu o le koneteina o le a fa'ateleina pe a fa'aalia i le vevela maualuga, ma e iai le lamatiaga o le malepe ma le pa. E mautu fa'akemikolo ma e le mu. Na'o le ammonia-sodium metal reagent vai e mafai ona galue i le vevela o le potu. O le carbon tetrafluoride o se kesi e mafua ai le aafiaga o le greenhouse. E matua mautu lava, e mafai ona tumau i le ea mo se taimi umi, ma o se kesi greenhouse malosi tele. E fa'aaogaina le carbon tetrafluoride i le faiga o le plasma etching o matagaluega tu'ufa'atasi eseese. E faʻaaogaina foʻi o se kesi laser, ma e faʻaaogaina i mea faʻamālūlū e maualalo le vevela, mea faʻamamā, mea faʻasusu, mea e faʻamālūlū ai, ma mea faʻamālūlū mo masini e iloa ai le infrared. O le kesi e faʻaaogaina tele lea o le plasma etching i le alamanuia microelectronics. O se faʻafefiloi o le kesi tetrafluoromethane maualuga le mama ma le kesi tetrafluoromethane maualuga le mama ma le okesene maualuga le mama. E mafai ona faʻaaogaina lautele i le silicon, silicon dioxide, silicon nitride, ma le phosphosilicate glass. O le faʻamamāina o mea manifinifi e pei o le tungsten ma le tungsten e faʻaaogaina lautele foʻi i le faʻamamaina o luga o masini eletise, gaosiga o le solar cell, tekinolosi laser, faʻamālūlūina maualalo le vevela, siakiina o le tafe, ma le detergent i le gaosiga o le printed circuit. E faʻaaogaina o se mea faʻamālūlū e maualalo le vevela ma le tekinolosi etching mago plasma mo matagaluega tuʻufaʻatasi. Lapataʻiga mo le teuina: Teu i totonu o se fale teu oloa kesi malulu, e iai le ea e le mu. Taofi ese mai le afi ma puna vevela. E le tatau ona sili atu le vevela o le teuina i le 30°C. E tatau ona teuina ese mai mea e faigofie ona mu (mugofie) ma mea e fa'aola ai siama, ma 'alo'ese mai le teuina fa'afefiloi. E tatau ona fa'apipi'iina le nofoaga e teu ai i ni mea faigaluega mo togafitiga fa'afuase'i pe a tafe.

Talosaga:

① Mea Fa'amālūlū:

E faʻaaogaina nisi taimi le Tetrafluoromethane o se faʻamālūlū e maualalo le vevela.

  fdrgr greg

② Vā'ei:

E faʻaaogaina na o ia i le gaosiga laiti o mea faʻaeletoronika pe faʻatasi ma le okesene e fai ma plasma etchant mo le silicon, silicon dioxide, ma le silicon nitride.

dsgre rgg

Afifi masani:

Oloa Carbon Tetrafluoride CF4
Tele o le Afifi Silini 40Lt Silini 50Ltr  
Fa'atumuina o le Mamafa Mama/Cyl 30Kgs 38Kgs  
Aofa'i ua utaina i totonu o le 20'Container 250 Silini 250 Silini
Mamafa Mama Aofa'i 7.5 Tone 9.5 Tone
Mamafa o le Tare o le Silini 50Kgs 55Kgs
Valve CGA 580

Tulaga lelei:

①Mama maualuga, nofoaga aupito lata mai;

②Kamupani gaosi tusi faamaonia ISO;

③Fa'ao'oina vave;

④Faiga au'ili'iliga i luga ole laiga mo le puleaina o le lelei i la'asaga ta'itasi;

⑤Manaʻoga maualuga ma le faʻagasologa faʻaeteete mo le taulimaina o le ogāumu aʻo leʻi faʻatumuina;Matou te faʻatinoina pea lava pea lo matou agaga o le "Fou fou e aumaia ai le alualu i luma, Tulaga maualuga e faʻamautinoa ai le ola, Faʻamanuiaga tau maketi a le Pulega, Faʻatosina mai o tagata faʻatau mo le faʻatau vevela o Saina High Purity Carbon Tetrafluoride CF4 Gas mo le Semiconductor Industry Etching, Matou te taliaina ma le agalelei uo mai soʻo se ituaiga o olaga i aso uma e saili le galulue faʻatasi ma fausia se lumanaʻi sili atu ona pupula ma matagofie.
Fa'atau vaveSaina CF4 Refrigerant Gas, Ogāumu Kasa, O matou o lau pa'aga fa'atuatuaina i maketi fa'ava-o-malo ma oloa sili ona lelei. O matou tulaga lelei o le fa'afouga, fetu'una'i ma le fa'atuatuaina lea na fausia i le luasefulu tausaga talu ai. Matou te taula'i atu i le tu'uina atu o auaunaga mo a matou tagata fa'atau o se elemene autu i le fa'amalosia o a matou mafutaga mo se taimi umi. O lo matou maua pea o fofo maualuga fa'atasi ai ma la matou auaunaga sili ona lelei a'o le'i fa'atauina atu ma le mae'a ai o le fa'atauina atu e fa'amautinoa ai le malosi o le tauvaga i se maketi fa'avaomalo ua fa'ateleina.


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  • Sosoo ai:

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