O loʻo tausisia e le kamupani le filosofia o le "Ia avea ma Numera 1 i le lelei, ia faʻavaeina i luga o aitalafu ma le faʻatuatuaina mo le tuputupu aʻe", o le a faʻaauau pea ona auauna atu i tagata faʻatau tuai ma fou mai totonu ma fafo ma le naunautai atoa mo le High definition China Industrial Carbon Tetrafluoride CF4 Gas. Ua matou faʻalauteleina nei la matou pisinisi laʻititi i Siamani, Turkey, Kanata, ISA, Initonesia, Initia, Nigeria, Pasila ma nisi o isi itulagi i le lalolagi atoa. Ua matou faia ma le malosi le galuega ina ia avea ma se tasi o kamupani sili ona lelei i le lalolagi atoa.
O loʻo lagolagoina e le kamupani le filosofia o le "Ia Numera 1 i le lelei, ia faʻavae i luga o aitalafu ma le faʻatuatuaina mo le tuputupu aʻe", o le a faʻaauau pea ona auauna atu i tagata faʻatau tuai ma fou mai le fale ma fafo ma le naunautai atoa moSaina CF4 Refrigerant Gas, Ogāumu Kasa, O ni faʻataʻitaʻiga malolosi ma faʻalauiloa lelei i le lalolagi atoa. E le mou atu lava galuega tetele i se taimi vave, o se mea e tatau ona e faia mo oe lava ia e matua lelei lava. Faʻatasi ai ma le taʻiala o le mataupu faavae o le Faʻautauta, Lelei, Faʻatasi ma le Fouga. O loʻo faia e le kamupani se taumafaiga sili e faʻalautele ai ana fefaʻatauaʻiga faavaomalo, faʻaleleia lana pisinisi. Faʻaleleia ma faʻateleina lana fua faʻatau atu i fafo. Matou te talitonu o le a iai sa matou faʻamoemoega manuia ma o le a tufatufa atu i le lalolagi atoa i tausaga a sau.
| Fa'amatalaga | 99.999% |
| Okesene+Argon | ≤1ppm |
| Naitorosene | ≤4 ppm |
| Susū (H2O) | ≤3 ppm |
| HF | ≤0.1 ppm |
| CO | ≤0.1 ppm |
| CO2 | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤1 ppm |
| Halocarbynes | ≤1 ppm |
| Mea Leaga Atoa | ≤10 ppm |
O le carbon tetrafluoride o se hydrocarbon halogenated ma le fua fa'akemikolo CF4. E mafai ona ta'ua o se hydrocarbon halogenated, halogenated methane, perfluorocarbon, po'o se fa'aputuga inorganic. O le carbon tetrafluoride o se kesi e leai se lanu ma leai se manogi, e le solo i le vai, e solo i le benzene ma le chloroform. E mautu i lalo o le vevela ma le mamafa masani, 'alo'ese mai mea malolosi e fa'aola ai le ea, mea e mu pe mu. O kesi e le mu, o le mamafa i totonu o le koneteina o le a fa'ateleina pe a fa'aalia i le vevela maualuga, ma e iai le lamatiaga o le malepe ma le pa. E mautu fa'akemikolo ma e le mu. Na'o le ammonia-sodium metal reagent vai e mafai ona galue i le vevela o le potu. O le carbon tetrafluoride o se kesi e mafua ai le aafiaga o le greenhouse. E matua mautu lava, e mafai ona tumau i le ea mo se taimi umi, ma o se kesi greenhouse malosi tele. E fa'aaogaina le carbon tetrafluoride i le faiga o le plasma etching o matagaluega tu'ufa'atasi eseese. E faʻaaogaina foʻi o se kesi laser, ma e faʻaaogaina i mea faʻamālūlū e maualalo le vevela, mea faʻamamā, mea faʻasusu, mea e faʻamālūlū ai, ma mea faʻamālūlū mo masini e iloa ai le infrared. O le kesi e faʻaaogaina tele lea o le plasma etching i le alamanuia microelectronics. O se faʻafefiloi o le kesi tetrafluoromethane maualuga le mama ma le kesi tetrafluoromethane maualuga le mama ma le okesene maualuga le mama. E mafai ona faʻaaogaina lautele i le silicon, silicon dioxide, silicon nitride, ma le phosphosilicate glass. O le faʻamamāina o mea manifinifi e pei o le tungsten ma le tungsten e faʻaaogaina lautele foʻi i le faʻamamaina o luga o masini eletise, gaosiga o le solar cell, tekinolosi laser, faʻamālūlūina maualalo le vevela, siakiina o le tafe, ma le detergent i le gaosiga o le printed circuit. E faʻaaogaina o se mea faʻamālūlū e maualalo le vevela ma le tekinolosi etching mago plasma mo matagaluega tuʻufaʻatasi. Lapataʻiga mo le teuina: Teu i totonu o se fale teu oloa kesi malulu, e iai le ea e le mu. Taofi ese mai le afi ma puna vevela. E le tatau ona sili atu le vevela o le teuina i le 30°C. E tatau ona teuina ese mai mea e faigofie ona mu (mugofie) ma mea e fa'aola ai siama, ma 'alo'ese mai le teuina fa'afefiloi. E tatau ona fa'apipi'iina le nofoaga e teu ai i ni mea faigaluega mo togafitiga fa'afuase'i pe a tafe.
① Mea Fa'amālūlū:
E faʻaaogaina nisi taimi le Tetrafluoromethane o se faʻamālūlū e maualalo le vevela.
② Vā'ei:
E faʻaaogaina na o ia i le gaosiga laiti o mea faʻaeletoronika pe faʻatasi ma le okesene e fai ma plasma etchant mo le silicon, silicon dioxide, ma le silicon nitride.
| Oloa | Carbon Tetrafluoride CF4 | ||
| Tele o le Afifi | Silini 40Lt | Silini 50Ltr | |
| Fa'atumuina o le Mamafa Mama/Cyl | 30Kgs | 38Kgs | |
| Aofa'i ua utaina i totonu o le 20'Container | 250 Silini | 250 Silini | |
| Mamafa Mama Aofa'i | 7.5 Tone | 9.5 Tone | |
| Mamafa o le Tare o le Silini | 50Kgs | 55Kgs | |
| Valve | CGA 580 | ||
①Mama maualuga, nofoaga aupito lata mai;
②Kamupani gaosi tusi faamaonia ISO;
③Fa'ao'oina vave;
④Faiga au'ili'iliga i luga ole laiga mo le puleaina o le lelei i la'asaga ta'itasi;
⑤Manaʻoga maualuga ma le faʻagasologa faʻaeteete mo le taulimaina o le ogāumu aʻo leʻi faʻatumuina;O loʻo tausisia e le kamupani le filosofia o le "Ia avea ma Numera 1 i le lelei, ia faʻavaeina i luga o aitalafu ma le faʻatuatuaina mo le tuputupu aʻe", o le a faʻaauau pea ona auauna atu i tagata faʻatau tuai ma fou mai totonu ma fafo ma le naunautai atoa mo le High definition China Industrial Carbon Tetrafluoride CF4 Gas. Ua matou faʻalauteleina nei la matou pisinisi laʻititi i Siamani, Turkey, Kanata, ISA, Initonesia, Initia, Nigeria, Pasila ma nisi o isi itulagi i le lalolagi atoa. Ua matou faia ma le malosi le galuega ina ia avea ma se tasi o kamupani sili ona lelei i le lalolagi atoa.
Fa'amatalaga maualugaSaina CF4 Refrigerant Gas, Ogāumu Kasa, O ni faʻataʻitaʻiga malolosi ma faʻalauiloa lelei i le lalolagi atoa. E le mou atu lava galuega tetele i se taimi vave, o se mea e tatau ona e faia mo oe lava ia e matua lelei lava. Faʻatasi ai ma le taʻiala o le mataupu faavae o le Faʻautauta, Lelei, Faʻatasi ma le Fouga. O loʻo faia e le kamupani se taumafaiga sili e faʻalautele ai ana fefaʻatauaʻiga faavaomalo, faʻaleleia lana pisinisi. Faʻaleleia ma faʻateleina lana fua faʻatau atu i fafo. Matou te talitonu o le a iai sa matou faʻamoemoega manuia ma o le a tufatufa atu i le lalolagi atoa i tausaga a sau.