O lo matou kamupani o loʻo faʻamamafaina pea le faiga faʻavae lelei o le "lelei o oloa o le faʻavae lea o le ola o pisinisi; o le faʻamalieina o tagata faʻatau o le faʻamoemoega ma le iʻuga o se pisinisi; o le faʻaleleia atili faifai pea o le sailiga e faʻavavau o le aufaigaluega" ma le faʻamoemoega faifai pea o le "igoa muamua, tagata faʻatau muamua" mo le Kamupani Gaosimea Saina moSaina Carbon Tetrafluoride CF4Electronic Gas, Matou te fautuaina oe e faʻafesoʻotaʻi mai matou auā o loʻo matou sailia ni paʻaga i la matou pisinisi. Matou te mautinoa o le a e maua le manuia i le faia o pisinisi ma i matou ae o le a maua ai foʻi ni tupe mama. Ua matou sauni e tuʻuina atu mea e te manaʻomia.
O lo matou kamupani o loʻo faʻamamafaina pea le faiga faʻavae lelei o le "lelei o oloa o le faʻavae lea o le ola o pisinisi; o le faʻamalieina o tagata faʻatau o le faʻamoemoega ma le iʻuga o se pisinisi; o le faʻaleleia atili faifai pea o le sailiga e faʻavavau o le aufaigaluega" ma le faʻamoemoega tumau o le "igoa muamua, tagata faʻatau muamua" moCF4, Saina Carbon Tetrafluoride, matou te faʻamoemoe ma le faʻamaoni e faʻatuina se mafutaga faʻapisinisi lelei ma le umi ma lau kamupani e ala i lenei avanoa, e faʻavae i luga o le tutusa, manuia faʻatasi ma pisinisi e manumalo uma ai tagata mai le taimi nei seʻia oʻo i le lumanaʻi. "O lou faʻamalieina o lo matou fiafia lea".
| Fa'amatalaga | 99.999% |
| Okesene+Argon | ≤1ppm |
| Naitorosene | ≤4 ppm |
| Susū (H2O) | ≤3 ppm |
| HF | ≤0.1 ppm |
| CO | ≤0.1 ppm |
| CO2 | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤1 ppm |
| Halocarbynes | ≤1 ppm |
| Mea Leaga Atoa | ≤10 ppm |
O le carbon tetrafluoride o se hydrocarbon halogenated ma le fua fa'akemikoloCF4. E mafai ona manatu i ai o se hydrocarbon halogenated, methane halogenated, perfluorocarbon, poʻo se mea e le o se mea e le o se mea ola. O le carbon tetrafluoride o se kesi e leai se lanu ma leai se manogi, e le solo i le vai, e solo i le benzene ma le chloroform. E mautu i lalo o le vevela ma le mamafa masani, aloese mai mea malolosi e faʻaola ai le tino, mea e mu pe mu. O le kesi e le mu, o le mamafa i totonu o le koneteina o le a faʻateleina pe a faʻaalia i le vevela maualuga, ma e iai le lamatiaga o le malepe ma le pa. E mautu faʻakemikolo ma e le mu. Naʻo le ammonia-sodium metal reagent vai e mafai ona galue i le vevela o le potu. O le carbon tetrafluoride o se kesi e mafua ai le aafiaga o le faleuila. E matua mautu lava, e mafai ona tumau i le ea mo se taimi umi, ma o se kesi faleuila malosi tele. E faʻaaogaina le carbon tetrafluoride i le faiga o le plasma etching o matagaluega tuʻufaʻatasi eseese. E faʻaaogaina foʻi o se kesi laser, ma e faʻaaogaina i refrigerants maualalo le vevela, solvents, lubricants, insulating materials, ma coolants mo infrared detectors. O le kesi etching plasma lea e sili ona faʻaaogaina i le alamanuia microelectronics. O se faʻafefiloi o le kesi tetrafluoromethane maualuga le mama ma le kesi tetrafluoromethane maualuga le mama ma le okesene maualuga le mama. E mafai ona faʻaaogaina lautele i le silicon, silicon dioxide, silicon nitride, ma le phosphosilicate glass. O le etching o mea manifinifi e pei o le tungsten ma le tungsten e faʻaaogaina lautele foi i le faʻamamaina o luga o masini eletise, gaosiga o le solar cell, tekinolosi laser, faʻamālūlūina maualalo le vevela, siakiina o le tafe, ma le detergent i le gaosiga o le printed circuit. Faʻaaogaina o se refrigerant maualalo le vevela ma le tekinolosi etching mago plasma mo integrated circuits. Lapataiga mo le teuina: Teu i totonu o se fale teu oloa kesi malulu, e le mu, e iai le ea. Taofi ese mai le afi ma puna o le vevela. E le tatau ona sili atu le vevela o le teuina i le 30°C. E tatau ona teuina eseese mai mea e faigofie ona mu (mu) ma oxidants, ma aloese mai le teuina fefiloi. E tatau ona faʻapipiʻiina le nofoaga e teu ai i meafaigaluega togafitiga faʻafuaseʻi e tafe ai.
① Mea Fa'amālūlū:
E faʻaaogaina nisi taimi le Tetrafluoromethane o se faʻamālūlū e maualalo le vevela.
② Vā'ei:
E faʻaaogaina na o ia i le gaosiga laiti o mea faʻaeletoronika pe faʻatasi ma le okesene e fai ma plasma etchant mo le silicon, silicon dioxide, ma le silicon nitride.
| Oloa | Carbon Tetrafluoride CF4 | ||
| Tele o le Afifi | Silini 40Lt | Silini 50Ltr | |
| Fa'atumuina o le Mamafa Mama/Cyl | 30Kgs | 38Kgs | |
| Aofa'i ua utaina i totonu o le 20'Container | 250 Silini | 250 Silini | |
| Mamafa Mama Aofa'i | 7.5 Tone | 9.5 Tone | |
| Mamafa o le Tare o le Silini | 50Kgs | 55Kgs | |
| Valve | CGA 580 | ||
①Mama maualuga, nofoaga aupito lata mai;
②Kamupani gaosi tusi faamaonia ISO;
③Fa'ao'oina vave;
④Faiga au'ili'iliga i luga ole laiga mo le puleaina o le lelei i la'asaga ta'itasi;
⑤Manaʻoga maualuga ma le faʻagasologa faʻaeteete mo le taulimaina o le ogāumu aʻo leʻi faʻatumuina;O lo matou kamupani o loʻo faʻamamafaina pea le faiga faʻavae lelei o le "lelei o oloa o le faʻavae lea o le olaola o pisinisi; o le faʻamalieina o tagata faʻatau o le faʻaiʻuga ma le iʻuga o se pisinisi; o le faʻaleleia atili faifai pea o le sailiga lea o tagata faigaluega" ma le faʻamoemoega tumau o le "igoa muamua, tagata faʻatau muamua" mo le Kamupani Gaosi Saina mo Saina Carbon Tetrafluoride CF4 Electronic Gas, Matou te fautuaina oe e faʻafesoʻotaʻi mai aua o loʻo matou sailia ni paʻaga i totonu o la matou pisinisi. Matou te mautinoa o le a e maua le pisinisi faʻatasi ma i matou e le gata ina manuia ae faʻapea foi ona maua ai tupe mama. Ua matou sauni e tuʻuina atu ia te oe mea e te manaʻomia.
O le Kamupani Gaosimea Saina mo le Carbon Tetrafluoride Saina, CF4, matou te faʻamoemoe ma le faʻamaoni e faʻatuina se mafutaga faʻapisinisi lelei ma le umi ma lau kamupani faʻaaloalogia e ala i lenei avanoa, e faʻavae i luga o le tutusa, manuia faʻatasi ma pisinisi manumalo uma mai le taimi nei i le lumanaʻi. "O lou faʻamalieina o lo matou fiafiaga lea".