Lisi Tau Taugofie mo le Saina Maualuga Mama CF4 Gas mo le Semiconductor Industry Etching

Fa'amatalaga Pupuu:


Fa'amatalaga o le oloa

Fa'ailoga o Oloa

I le tausisia o lau mataupu faavae o le "lelei, fesoasoani, faatinoga ma le tuputupu aʻe", ua matou maua ai le faatuatuaga ma viiga mai tagata faatau i totonu ma fafo atu o le lalolagi mo le Taugofie o le Lisi o Tau mo Saina Maualuga Mama CF4 Gas mo le Semiconductor Industry Etching, O la matou manatu lagolago o le faamaoni, malosi, moni ma le fou. Faatasi ai ma le fesoasoani, o le a matou faaleleia atili ai.
I le tausisia o lau mataupu faavae o le "lelei, fesoasoani, faatinoga ma le tuputupu aʻe", ua matou maua ai le faatuatuaga ma viiga mai tagata faatau i totonu ma fafo atu o le lalolagi moSaina CF4 Refrigerant Gas, Ogāumu Kasa, O le a tausisi la matou kamupani i le filosofia faapisinisi "Le lelei muamua, atoatoa e faavavau, fa'amuamua tagata, fa'atekonolosi fou". E galue malosi e fa'aauau pea ona alualu i luma, fa'atekonolosi fou i le alamanuia, ma faia taumafaiga uma mo pisinisi sili ona lelei. Matou te faia le mea sili matou te mafaia e fausia ai le fa'ata'ita'iga o le pulega fa'asaienisi, e a'oa'o ai le tele o le malamalama fa'apolofesa, e atiina ae meafaigaluega gaosiga fa'apitoa ma le faiga o gaosiga, e fatuina ai oloa lelei muamua, tau talafeagai, auaunaga maualuga, vave fa'ao'oina atu, e avatu ai ia te oe se taua fou.

Fa'atulagaga Fa'apitoa

Fa'amatalaga 99.999%
Okesene+Argon ≤1ppm
Naitorosene ≤4 ppm
Susū (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0.1 ppm
CO ≤0.1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynes ≤1 ppm
Mea Leaga Atoa ≤10 ppm

O le carbon tetrafluoride o se hydrocarbon halogenated ma le fua fa'akemikolo CF4. E mafai ona ta'ua o se hydrocarbon halogenated, halogenated methane, perfluorocarbon, po'o se fa'aputuga inorganic. O le carbon tetrafluoride o se kesi e leai se lanu ma leai se manogi, e le solo i le vai, e solo i le benzene ma le chloroform. E mautu i lalo o le vevela ma le mamafa masani, 'alo'ese mai mea malolosi e fa'aola ai le ea, mea e mu pe mu. O kesi e le mu, o le mamafa i totonu o le koneteina o le a fa'ateleina pe a fa'aalia i le vevela maualuga, ma e iai le lamatiaga o le malepe ma le pa. E mautu fa'akemikolo ma e le mu. Na'o le ammonia-sodium metal reagent vai e mafai ona galue i le vevela o le potu. O le carbon tetrafluoride o se kesi e mafua ai le aafiaga o le greenhouse. E matua mautu lava, e mafai ona tumau i le ea mo se taimi umi, ma o se kesi greenhouse malosi tele. E fa'aaogaina le carbon tetrafluoride i le faiga o le plasma etching o matagaluega tu'ufa'atasi eseese. E faʻaaogaina foʻi o se kesi laser, ma e faʻaaogaina i mea faʻamālūlū e maualalo le vevela, mea faʻamamā, mea faʻasusu, mea e faʻamālūlū ai, ma mea faʻamālūlū mo masini e iloa ai le infrared. O le kesi e faʻaaogaina tele lea o le plasma etching i le alamanuia microelectronics. O se faʻafefiloi o le kesi tetrafluoromethane maualuga le mama ma le kesi tetrafluoromethane maualuga le mama ma le okesene maualuga le mama. E mafai ona faʻaaogaina lautele i le silicon, silicon dioxide, silicon nitride, ma le phosphosilicate glass. O le faʻamamāina o mea manifinifi e pei o le tungsten ma le tungsten e faʻaaogaina lautele foʻi i le faʻamamaina o luga o masini eletise, gaosiga o le solar cell, tekinolosi laser, faʻamālūlūina maualalo le vevela, siakiina o le tafe, ma le detergent i le gaosiga o le printed circuit. E faʻaaogaina o se mea faʻamālūlū e maualalo le vevela ma le tekinolosi etching mago plasma mo matagaluega tuʻufaʻatasi. Lapataʻiga mo le teuina: Teu i totonu o se fale teu oloa kesi malulu, e iai le ea e le mu. Taofi ese mai le afi ma puna vevela. E le tatau ona sili atu le vevela o le teuina i le 30°C. E tatau ona teuina ese mai mea e faigofie ona mu (mugofie) ma mea e fa'aola ai siama, ma 'alo'ese mai le teuina fa'afefiloi. E tatau ona fa'apipi'iina le nofoaga e teu ai i ni mea faigaluega mo togafitiga fa'afuase'i pe a tafe.

Talosaga:

① Mea Fa'amālūlū:

E faʻaaogaina nisi taimi le Tetrafluoromethane o se faʻamālūlū e maualalo le vevela.

  fdrgr greg

② Vā'ei:

E faʻaaogaina na o ia i le gaosiga laiti o mea faʻaeletoronika pe faʻatasi ma le okesene e fai ma plasma etchant mo le silicon, silicon dioxide, ma le silicon nitride.

dsgre rgg

Afifi masani:

Oloa Carbon Tetrafluoride CF4
Tele o le Afifi Silini 40Lt Silini 50Ltr  
Fa'atumuina o le Mamafa Mama/Cyl 30Kgs 38Kgs  
Aofa'i ua utaina i totonu o le 20'Container 250 Silini 250 Silini
Mamafa Mama Aofa'i 7.5 Tone 9.5 Tone
Mamafa o le Tare o le Silini 50Kgs 55Kgs
Valve CGA 580

Tulaga lelei:

①Mama maualuga, nofoaga aupito lata mai;

②Kamupani gaosi tusi faamaonia ISO;

③Fa'ao'oina vave;

④Faiga au'ili'iliga i luga ole laiga mo le puleaina o le lelei i la'asaga ta'itasi;

⑤Manaʻoga maualuga ma le faʻagasologa faʻaeteete mo le taulimaina o le ogāumu aʻo leʻi faʻatumuina;I le tausisia o lau mataupu faavae o le "lelei, fesoasoani, faatinoga ma le tuputupu aʻe", ua matou maua ai le faatuatuaga ma viiga mai tagata faatau i totonu ma fafo atu o le lalolagi mo le Taugofie o le Lisi o Tau mo Saina Maualuga Mama CF4 Gas mo le Semiconductor Industry Etching, O la matou manatu lagolago o le faamaoni, malosi, moni ma le fou. Faatasi ai ma le fesoasoani, o le a matou faaleleia atili ai.
Lisi Tau Taugofie moSaina CF4 Refrigerant Gas, Ogāumu Kasa, O le a tausisi la matou kamupani i le filosofia faapisinisi "Le lelei muamua, atoatoa e faavavau, fa'amuamua tagata, fa'atekonolosi fou". E galue malosi e fa'aauau pea ona alualu i luma, fa'atekonolosi fou i le alamanuia, ma faia taumafaiga uma mo pisinisi sili ona lelei. Matou te faia le mea sili matou te mafaia e fausia ai le fa'ata'ita'iga o le pulega fa'asaienisi, e a'oa'o ai le tele o le malamalama fa'apolofesa, e atiina ae meafaigaluega gaosiga fa'apitoa ma le faiga o gaosiga, e fatuina ai oloa lelei muamua, tau talafeagai, auaunaga maualuga, vave fa'ao'oina atu, e avatu ai ia te oe se taua fou.


  • Muamua:
  • Sosoo ai:

  • Tusi lau savali iinei ma lafo mai ia i matou